Über Polysilane. Die Umsetzung von CaSi 2 mit Halogenwasserstoff in wasserfreiem Äthanol

In der Absicht, ein lepidoides( 2 ) Polysilan(1) (SiH) n herzustellen, wurde CaSi 2 , in dem das Si‐Schichtgitter bereits vorgebildet ist, mit HCl in wasserfreiem Äthanol behandelt. Bei Temperaturen unter 15° C gelang es hierbei, wenn auch nicht das reine (SiH n ), so doch Substitutionsprodukte des gewünschten Stoffes herzustellen, die etwa der Zusammensetzung [Si 6 ]H 3 Cl 2 (OR) entsprechen. Bei erhöhten Temperaturen (25–50°C) entstanden auf Grund eines durch Veresterung gebildeten geringen Wassergehalts bereits teilweise oxydierte Produkte, die sich in ihrer Zusammensetzung Substitutionsprodukten des Siloxens( 3 ) nähern und etwa der Formel\documentclass{article}\pagestyle{empty}\begin{document}$$ \left[ {{\rm Si}_{\rm 6} {\rm O}_{{\rm 1 - 2}} } \right]{\rm H}_{\rm 3} {\rm Cl}_{\rm 2} \left({{\rm OR}} \right)$$\end{document}entsprechen.