Schwefel‐Thermitverfahren zur Darstellung von Rein‐Silicium

Es wird der Mechanismus des alten K ÜHNE schen Verfahrens klargestellt, aus Al, SiO 2 und S nach einem Thermitprozeß eine an Si hochprozentige SiAl‐Legierung herzustellen (§ 1–4). Das Verfahren wurde apparativ und durch Verwendung reinster erhältlicher Materialien so weit ausgebildet, daß ein 64proz. Silumin resultierte, aus dem nach einem früheren Verfahren durch Chlorierung ein Si mit unter 10 −20 % Fe + Al hergestellt werden konnte (§ 5). Die Gründe werden erläutert, warum die Reinigung nicht weitergetrieben werden kann (§ 6). Der spez. Widerstand des gewonnenen Si war rund 15 Ω cm (§ 7).