Eine Methode zur quantitativen Bestimmung der SiH‐Bindung

Abstract Es wurde festgestellt, daß Lösungen von HgCl 2 Monosilan quantitativ absorbieren. Die Untersuchung der Vorgänge zeigt, daß diese Absorption auf der Oxydation des SiH 4 zu Kieselsäure unter Bildung von Hg 2 Cl 2 beruht.\documentclass{article}\pagestyle{empty}\begin{document}$$ {\rm SiH}_4 + 8{\rm HgCl}_2 + 4{\rm H}_{\rm 2} {\rm O} = {\rm Si(OH)}_4 + 4{\rm Hg}_2 {\rm Cl}_2 + 8{\rm HCl} $$\end{document} Die Oxydation des gebildeten Hg 2 Cl 2 mit J 2 gestattet eine quantitative Bestimmung des SiH 4 . Entsprechend verhalten sich alle SiH enthaltenden Verbindungen wie z. B. (C 2 H 5 ) 2 SiH 2 oder HSiCl 3 , so daß die Methode allgemein die Bestimmung der SiH Bindung ermöglicht und besonders zur Analyse gasförmiger und leicht flüchtiger Verbindungen geeignet ist.