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Bemerkungen zur Entstehung höhermolekularer Siliciumchloride im Abschreckrohr
Author(s) -
Schäfer Harald
Publication year - 1953
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19532740408
Subject(s) - chemistry , physics
Der Bildungsmechanismus der höhermolekularen Siliciumchloride bei der Synthese im Abschreckrohr wird erörtert. Es wird wahrscheinlich gemacht, daß die Chloride Si n Cl 2n+2 dadurch entstehen, daß sich die thermodynamisch stabilen Hauptbestandteile der bei hoher Temperatur vorliegenden Gasphase SiCl 4 und SiCl 2 – beim Abschrecken zusammenlagern:\documentclass{article}\pagestyle{empty}\begin{document}$$ {\rm SiCl}_4 + \left({{\rm n} - 1} \right){\rm SiCl}_2 = {\rm Si}_{\rm n} {\rm Cl}_{2{\rm n} + 2} $$\end{document} .