Bildung siliciumorganischer Verbindungen. IV. Das thermische Verhalten von C 2 H 5 SiH 3 , (C 2 H 5 ) 2 SiH 2 und (C 2 H 5 ) 3 SiH

Die bei der pyrochemischen Umsetzung von SiH 4 mit Äthylen entstehenden einfachen siliciumorganischen Verbindungen C 2 H 5 SiH 3 , (C 2 H 5 ) 2 SiH 2 , (C 2 H 5 ) 3 SiH sind Zwischenglieder im Ablauf der Gesamtreaktion. Sie zerfallen bei 440–460° C unter Bildung nieder‐ und höhermolekularer siliciumorganischer Verbindungen. Außerdem entstehen Wasserstoff und einfache Kohlenwasserstoffe. Die genannten Äthylsilane reagieren mit Äthylen.