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Bildung siliciumorganischer Verbindungen. IV. Das thermische Verhalten von C 2 H 5 SiH 3 , (C 2 H 5 ) 2 SiH 2 und (C 2 H 5 ) 3 SiH
Author(s) -
Fritz G.
Publication year - 1953
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/zaac.19532730320
Subject(s) - chemistry , medicinal chemistry
Die bei der pyrochemischen Umsetzung von SiH 4 mit Äthylen entstehenden einfachen siliciumorganischen Verbindungen C 2 H 5 SiH 3 , (C 2 H 5 ) 2 SiH 2 , (C 2 H 5 ) 3 SiH sind Zwischenglieder im Ablauf der Gesamtreaktion. Sie zerfallen bei 440–460° C unter Bildung nieder‐ und höhermolekularer siliciumorganischer Verbindungen. Außerdem entstehen Wasserstoff und einfache Kohlenwasserstoffe. Die genannten Äthylsilane reagieren mit Äthylen.