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Oxid‐Halbleiter mit ultrabreiter Bandlücke
Author(s) -
Grundmann Marius
Publication year - 2020
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.202000747
Subject(s) - materials science , physics , chemistry
Zusammenfassung Die Gepulste Laserdeposition (PLD, pulsed laser deposition) ist eine vergleichsweise einfache physikalische, vakuumbasierte Methode zur Herstellung von Dünnschichten. Hier werden verschiedene Aspekte der Abscheidung von oxidischen Halbleitern beleuchtet, insbesondere für das (Al,Ga,In) 2 O 3 ‐System mit sehr großer Bandlücke. Die von uns entwickelte Methode der kombinatorischen PLD für einen lateralen Konzentrationsgradienten (CCS‐PLD, continuous composition spread PLD) erlaubt eine einfache Darstellung von Legierungsreihen. In Kombination mit anschließenden ortsaufgelösten Methoden zur strukturellen, elektrischen und optischen Charakterisierung ergibt sich eine effiziente und systematische Untersuchung der physikalischen Eigenschaften der Legierungshalbleiter.