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PVD‐Sputteranlagen im ständigen Wandel
Author(s) -
Seyfert Ulf,
Heydenreich Uwe
Publication year - 2020
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.202000739
Subject(s) - art , gynecology , humanities , political science , medicine
Zusammenfassung Das Magnetronsputtern bietet aufgrund der Vielzahl von Verfahrensvariationen und verwendbaren Schichtmaterialien und ‐kombinationen breite Anwendungsmöglichkeiten in der Industrie. Einen starken Treiber für neue Anwendungen stellt derzeit die Autoindustrie mit dem Fokus auf Elektromobilität dar. Zunehmende technische Anforderungen und steigender Kostendruck müssen in wirtschaftlich tragfähige Anlagenkonzepte übersetzt werden. In dem Artikel werden verschiedene Grundprinzipien der Abscheidung bei Inline‐ und BatchAnlagen für das Magnetron‐Sputtern erläutert, beispielhaft einige Anwendungen und deren Anforderungen beschrieben und ein daraus abgeleitetes Konzept für eine Inline‐Magnetron‐Sputteranlage vorgestellt.