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Geregeltes Reaktivsputtern von Planar‐ und Rohrkathoden
Author(s) -
Radny Tobias,
Grub Sebastian,
Schäfer Rolf,
Schütte Thomas
Publication year - 2017
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.201700656
Subject(s) - sputtering , chemistry , physics , materials science , nanotechnology , thin film
Zusammenfassung In diesem Beitrag werden grundlegende Eigenschaften von reaktiven Sputterprozessen aufgezeigt und die Auswirkung der verwendeten Magnetrontechnik diskutiert. Weiterhin werden Regelmöglichkeiten zur Stabiliserung solcher Prozesse aufgezeigt. Am Beispiel optischer Breitbandspektroskopie des Sputterplasmas wird die Integration solcher Regelungen in die Anlagentechnik beschrieben und ein Ausblick auf Anwendungen neben der Regelung reaktiver Prozesse gegeben. Zum Abschluss werden Beispielanwendungen aufgezeigt und die Vorteile geregelter Prozesse gegenüber ungeregelter reaktiver Prozesse diskutiert.