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Dünnschichttechnologie

Author(s) -

Schultrich, Bernd

Publication year - 2016

Publication title -

vakuum in forschung und praxis

Language(s) - German

Resource type - Journals

SCImago Journal Rank - 0.213

H-Index - 13

eISSN - 1522-2454

pISSN - 0947-076X

DOI - 10.1002/vipr.201690013

Subject(s) - materials science , sputtering , analytical chemistry (journal) , physics , nanotechnology , chemistry , thin film , environmental chemistry

Physikalische Gasphasenabscheidung / Vakuumverdampfen / Bedampfen I / Bedampfen II / Zerstäuben von Oberflächen / Sputter‐Abscheidung I / Sputter‐Abscheidung II / Vakuumbogen / Vakuumbogen‐Abscheidung I / Vakuumbogen‐Abscheidung II / Puls‐Laser‐Deposition (PLD) / Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) / Thermische CVD / Plasma‐CVD / Atmosphärendruck‐Plasma‐CVD / Kombinations‐ und Mehrschrittverfahren / Beschichtung von Sondergeometrien / Vakuumanforderungen der PVD / Partikelbildung bei der CVD / Plasma‐Eigenschaften / Gasentladungs‐Plasmen / Plasma‐Randschichten / Wechselfeld‐Plasmen / Anforderungen an Beschichtungsverfahren

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