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Abscheidung von SiO x N y Sperrschichten durch Dual Magnetron Sputtering
Author(s) -
Tinkham Brad P.
Publication year - 2015
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.201500593
Subject(s) - chemistry , nuclear chemistry , polymer chemistry
SiO x N y Sperrschichten wurden mittels reaktiven Sputterns unter Verwendung von Mittelfrequenz (MF‐) und gepulster Gleichstrom (DC‐) Generatortechnologie auf GEN 5 (ca. 1,54 m 2 ) Glassubstraten abgeschieden. Zur Bestimmung der optischen und elektrischen Eigenschaften der Schichten, inklusive Homogenität, wurden UV/VIS Spektroskopie, Ellipsometrie und Rasterkraftmikroskopie eingesetzt. Die Wirksamkeit der SiO x N y Beschichtungen als Sperrschicht gegen thermisch aktivierte Na + ‐Diffusion wurde durch Anlegen einer elektrischen Spannung und Lagerung in einer feuchten Umgebung anschließend evaluiert.