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Optische in‐situ Prozessverfolgung und ‐steuerung
Author(s) -
Gäbler Johannes,
Stenzel Olaf,
Wilbrandt Steffen,
Kaiser Norbert
Publication year - 2013
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.201300539
Subject(s) - gynecology , physics , medicine
Optische Monitoringverfahren haben sich im vergangenen Jahrzehnt als unverzichtbarer Bestandteil einer deterministischen Herstellungsstrategie anspruchsvoller optischer Beschichtungen etabliert. Traditionelle Umsetzungen basieren dabei auf der Messung des Transmissionsspektrums oder alternativ des Reflexionsspektrums direkt an der wachsenden Schicht. Im Falle praktisch absorptions‐ und streufreier Beschichtungen auf transparenten Substraten bieten beide Herangehensweisen grundsätzlich den gleichen Informationsgehalt. Im Falle absorbierender Schichtsysteme sind die Informationen aus dem Transmissionsspektrum und dem Reflexionsspektrum grundsätzlich nicht mehr gleichwertig. In diesem Fall erscheint es sinnvoll, beide Spektren während der Beschichtung gleichzeitig zu registrieren, um ein möglichst vollständiges Bild vom Status der wachsenden Schicht zu erhalten. Wir stellen die Realisierung eines solchen Aufbaus für die Prozessverfolgung und ‐steuerung für branchenübliche Verdampfungsprozesse vor und demonstrieren die Wirkweise am Beispiel des Wachstums von Aluminiumoxidschichten sowie Aluminiumspiegeln.

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