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Reinigung von Vakuumbauteilen für UHV‐ und UCV‐Anwendungen
Author(s) -
Posth Oliver,
Wunderlich Heiko,
Flämmich Michael,
Bergner Ute
Publication year - 2012
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.201200511
Subject(s) - chemistry , physics
Hochreine Vakuumkomponenten und ‐baugruppen bilden die Grundlage für eine Reihe moderner Hochtechnologieanwendungen z. B. in der Halbleiterindustrie, an Teilchenbeschleunigern und in der Oberflächenanalytik. Für diese Anwendungen sind insbesondere auf den Bauteiloberflächen anhaftende Partikel und die Oberflächendesorption von Wasser und organischen Verbindungen kritisch, da sie die sensiblen Prozesse im Ultrahochvakuum (UHV) und Ultra‐Clean‐Vacuum (UCV) empfindlich stören können. In diesem Beitrag werden einige etablierte Reinigungs‐ und Oberflächenbehandlungsmethoden im Hinblick auf ihre Wirkung zur Reduzierung der Partikelkontamination und Ausgasung von Wasser und organischen Verbindungen von Edelstahloberflächen diskutiert. Dabei wird verdeutlicht, dass die erzielte Reinheit stark von den Behandlungsschritten während der Oberflächenbearbeitung und anschließenden Reinigung abhängt und diese entsprechend der spezifischen Anforderungen des späteren Einsatzgebietes geeignet gewählt werden müssen.