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Plasmachemisches Ätzen und Beschichten bei Atmosphärendruck
Author(s) -
Lopez Elena,
Linaschke Dorit,
Dresler Birte,
Dani Ines,
Leyens Christoph,
Beyer Eckhard
Publication year - 2011
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.201100473
Subject(s) - materials science , physics
Zur industriellen Herstellung waferbasierter kristalliner Silizium‐Solarzellen kommt eine Vielzahl unterschiedlichster Technologien zum Einsatz. Die Kombination dieser Technologien erfordert ein aufwändiges Handling der Wafer, was nicht nur die Investitionskosten, sondern auch die Gefahr des Waferbruchs erhöht. Der Einsatz von Plasmatechnologien bietet die Möglichkeit, alle Prozessschritte in der Herstellungskette kristalliner Siliziumsolarzellen ohne Nutzung nasschemischer Bäder oder Vakuumprozesse durchzuführen. Am Fraunhofer IWS wurden alle zur Solarzellenfertigung erforderlichen Ätzprozesse sowie die Abscheidung der Passivierungs‐ und Antireflexschicht mit Hilfe von Atmosphärendruck‐Plasmaprozessen erfolgreich demonstriert.