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Ionenstrahlpolieren von feinoptischen Substraten
Author(s) -
Nestler Matthias,
Demmler Marcel,
Zeuner Michael,
Kiontke Sven
Publication year - 2011
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.201100469
Subject(s) - physics , humanities , materials science , philosophy
Die steigenden Anforderungen an die Polierfehlerkorrektur in der Optikindustrie führen zur Entwicklung von innovativen Anlagenkonzepten, die den hohen Standards gerecht werden und gleichzeitig effektive Durchsatzraten gewährleisten. Die Autoren dieses Artikels präsentieren ein fortschrittliches neues Anlagensystem für den kommerziellen Optikmarkt, welches anlagentechnische Neuerungen mit einem ausgefeilten Prozessfluss verbindet. Einsparungen von unnötigen mechanischen Komponenten, der Einsatz einer Doppelschleuse und ein modifizierbarer Strahldurchmesser führen zu einer Bearbeitungsgenauigkeit besser als λ/50. Das Anlagensystem eignet sich für diverse Materialien in der Herstellung von optischen Bauteilen mit sphärischen und asphärischen Konturen sowie jeglichen Freiformflächen und ist mit einer eigens dafür entwickelten Software ausgestattet. [1]