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Einfluss der Oberflächenmorphologie auf die Performance von Low‐E Schichtsysteme
Author(s) -
Kleinhempel Ronny,
Wahl André,
Böhme Thomas,
Thielsch Roland
Publication year - 2011
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.201100444
Subject(s) - chemistry , polymer chemistry , physics , materials science
Am Beispiel der Abscheidung von Low‐E Schichten auf verschiedene Kunststoffoberflächen konnte der Einfluss der Oberflächenrauheit auf die funktionellen Eigenschaften diskutiert werden. Bei der Verwendung rauer Oberflächen wird eine verstärkte Absorption im sichtbaren Spektralbereich beobachtet, welche auf Oberflächenplasmonenverluste zurückzuführen ist. Für die Verbesserung der Transmission ( T vis ) muss folglich ein Substrat mit geringer Rauheit verwendet werden. Dabei ist es möglich, mit einer geeigneten Substratvorbehandlung die Substratoberfläche zu glätten. Zusätzlich wird die Stärke und die spektrale Lage der Plasmonenabsorption durch das dielektrische Material an der Grenzfläche zum Silber beeinflusst. Ein Material mit hoher Brechzahl ist für eine optimale Entspiegelung der Silberschicht notwendig. Auf rauen Substraten wird hierbei jedoch eine stärkere Absorption festgestellt. Eine Möglichkeit, diese Absorption zu reduzieren, ist die Verwendung von dünnen Zwischenschichten mit kleinerem Brechungsindex.