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Simulation von Plasma‐Beschichtungsprozessen
Author(s) -
Pflug Andreas,
Siemers Michael,
Schwanke Christoph,
Szyszka Bernd
Publication year - 2010
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.201000419
Subject(s) - gynecology , physics , medicine
Aufgrund der fortschreitenden Hochskalierung industrieller Plasma‐Beschichtungsprozesse steigen die Anforderungen sowohl an Produktivität als auch an Präzision kontinuierlich. Beide Anforderungen sind gegensätzlich, so wird z. B. eine Produktivitätssteigerung oft mittels Vergrößerung der Substratmaße erzielt, hierdurch wird i. d. R. die Homogenität der Schichteigenschaften über die Substratfläche verschlechtert. Eine auf experimentellen Methoden fußende Weiterentwicklung von Beschichtungsquellen wird durch die zunehmende Komplexität und Größe der Beschichtungsanlagen erschwert. Aus diesem Grund wird in der Forschung und Entwicklung in der Beschichtungstechnologie in letzter Zeit zunehmend ein Schwerpunkt auf Simulationsverfahren gesetzt. Am Fraunhofer‐Institut für Schicht und Oberflächentechnik wurde eine Particle‐in‐Cell Monte‐Carlo – Simulationsumgebung implementiert, um Transportphänomene und Gasentladungen im Niederdruckbereich detailliert beschreiben zu können. Bei der Entwicklung neuer Plasma‐Beschichtungsquellen können mit diesem Simulationstool Vorhersagen und Optimierungen durchgeführt sowie allgemein das Verständnis der Plasmaentladungsmechanismen vertieft werden.