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HiPIMS ‐ Technologie und Anwendungsfelder
Author(s) -
Bandorf Ralf,
Vergöhl Michael,
Werner Oliver,
Sittinger Volker,
Bräuer Günter
Publication year - 2009
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200900377
Subject(s) - high power impulse magnetron sputtering , physics , art , sputtering , sputter deposition , thin film , quantum mechanics
Seit der Einführung der planaren Magnetronkatode Mitte der siebziger Jahre hat die Magnetronzerstäubung fast alle Industriezweige, für die dünne Schichten eine Rolle spielen, im Sturm erobert. Zahlreiche Meilensteine wurden in den zurückliegenden 30 Jahren gesetzt. Zu den wichtigsten zählen sicher das Rohrmagnetron („CMAG”) und die Einführung gepulster Plasmen. Hochleistungs‐Impuls‐Magnetronsputtern ( HiPIMS ) oder auch Hochleistungs‐Puls‐Magnetronsputtern ( HPPMS ) ist ein weiterer innovativer Schritt zu Schichten mit neuer Qualität. HiPIMS nutzt Pulse im Megawattbereich, so dass an der Targetoberfläche Leistungsdichten von 1000 W/cm 2 und mehr erzeugt werden (konventionell: 20 – 50 W/cm 2 ). besonderen Vorteile der neuen Technik liegen darin, dass mit 50 – 90 % ein sehr hoher Anteil der am Substrat kondensierenden Spezies ionisiert ist, so dass herausragende Schichteigenschaften wie hohe Dichte, extrem glatte Oberflächen oder hohe Brechzahlen für optische Schichten erwartet werden können. en einer Einführung in das Thema hochionisierter Puls‐Plasmen wird das Potenzial dieser neuen Technologie an aktuellen Forschungsergebnissen im Bereich industrieller Entwicklung für verschiedene Branchen vorgestellt.