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Überwachung der Plasmahomogenität
Author(s) -
Michaeli Walter,
v. Fragstein Friederike
Publication year - 2008
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200800368
Subject(s) - physics , chemistry
Ein neues System wurde aufgebaut, das es ermöglicht, die örtliche Verteilung der Strahlungsintensität des Plasmas bei verschiedenen Wellenlängen schnell qualitativ zu ermitteln und auszuwerten. Dazu wird eine CCD‐Flächenkamera mit einem vorgeschalteten wellenlängenverstimmbaren Filter versehen. Der Einsatz dieses Systems wurde anhand von nicht‐schichtbildenden Argonplasmen sowie von schichtbildenden Acetylenplasmen erprobt. Der Fokus der Untersuchungen lag dabei auf dem Einfluss des Prozessdrucks auf die Plasma‐Emission und die resultierende Schichtabscheidung. Die Homogenität von sowohl Emission als auch Schichtabscheidung kann durch den Prozessdruck maßgeblich beeinflusst werden. Niedrige Prozessdrücke wirken sich in diesem Zusammenhang günstig auf beide Größen aus.