Plasmatechnik in der Photovoltaikindustrie

Seit der Einführung des EEG in Deutschland haben alle Bereiche photovoltaischer Produkte einen ungeahnten Aufschwung genommen. Konventionelle, wasserbasierte Solarzellen haben gegenüber Dünnschichttechniken immer noch den größeren Marktanteil. Die Produktionskapazitäten im Bereich der Dünnschichttechniken wurden in der letzten Zeit aus verschiedenen Motivationen heraus stark ausgebaut. Gleichzeitig haben sich die Fertigungstechniken zur Herstellung von siliziumbasierten Solarzellen weiterentwickelt, wobei ein Trend zur Standardisierung unübersehbar ist. Sowohl bei der Herstellung von großflächigen Dünnschichtmodulen, wie auch bei der Prozessierung von einzelnen Wafern werden plasmabasierte Prozesse in einer Reihe von Varianten verwendet. Zur Anwendung kommen PECVD Verfahren sowohl wie PVD Verfahren. Die Bandbreite der mit plasmabasierten Prozessen hergestellten Schichten reicht von Schichten wie SiN, ITO oder ZnO bis hin zum amorphen Silizium. Wir stellen an ausgewählten Beispielen aus den oben genannten Bereichen sich ergebende Fragestellungen für die Maschinentechnik und den Anwender vor.