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Atomlagenabscheidung als Werkzeug für die Nanotechnologie
Author(s) -
Albert Matthias,
Bartha Johann Wolfgang
Publication year - 2008
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200800339
Subject(s) - philosophy
Der charakteristische selbst begrenzende Wachstumsmechanismus der Atomlagenabscheidung (ALD) ermöglicht die Kontrolle der Schichtdicken im atomaren Bereich und erlaubt Beschichtungen komplexer Oberflächen. Diese Eigenschaft macht die ALD zu einer vielversprechenden Technik für die zukünftige Mikro ‐ und Nanotechnologie. Der Schlüssel für die ALD ist die Precursorchemie.