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Wasserstofffreie amorphe Kohlenstoffschichten ‐ abgeschieden durch plasmaaktivierte Hochratebedampfung
Author(s) -
Heinß JensPeter
Publication year - 2007
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200700328
Subject(s) - physics , chemistry , materials science
Mit der Technologie der plasmaaktivierten Elektronenstrahlverdampfung wurden wasserstofffreie amorphe Kohlenstoffschichten mit Raten von bis zu 100 μm/h abgeschieden. Die Ergebnisse der mechanischen und tribologischen Untersuchungen zeigen das Potential dieser aufgedampften Schichten für den Einsatz im Verschleißschutz. Schichthärten von bis zu 16 GPa wurden nachgewiesen. Der gegenwärtige Stand der Schichtcharakterisierung wird beschrieben und der Ausblick auf Möglichkeiten der weiteren Optimierung gegeben.