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HIPIMS: Die neue PVD‐Technologie
Author(s) -
Münz W.D.
Publication year - 2007
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200700308
Subject(s) - high power impulse magnetron sputtering , chemistry , sputtering , sputter deposition , materials science , nanotechnology , thin film
HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) stellt die neueste Entwicklung auf dem Gebiet der PVD‐Puls‐Sputter‐Technik dar. Unter dem Einfluss extrem hoher Puls‐Leistungen (4–6 MW) gelingt es, Gasentladungen zu erzeugen, die der weithin bekannten Arc‐Entladung, unter völliger Vermeidung von Droplets, sehr ähnlich sind. Hohe Metallionen‐Konzentrationen und Mehrfach‐Ionisierung tragen dazu bei, dass besonders dichte, homogene Schichten mit hoher Haftfestigkeit abgeschieden werden. Die industrielle Realisierung steht noch am Anfang. Mittlerweile sind bereits erste, auf HIPIMS spezialisierte Beschichtungsanlagen im Markt erhältlich. Erste Ergebnisse mit CrN–Schichten mit einer Härte von HV 3000 weisen auf das hohe Potential dieser neuen Technologievariante hin.