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Optische und mechanische Eigenschaften von RLVIP HfO 2 ‐Schichten
Author(s) -
Kunz Andrea,
Hallbauer Antje,
Huber Daniel,
Pulker Hans K.
Publication year - 2006
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200600301
Subject(s) - chemistry , physics , materials science
In diesem Artikel wurden auf ungeheizten Gläsern (Quarzglas, Borosilikatglas) und Si‐Wafern HfO 2 ‐Schichten mittels Reaktiven Niederspannungs‐Hochstrom‐Ionenplattieren (RLVIP) hergestellt. Diese wurden hinsichtlich der optischen Eigenschaften (Brechungsindex, Absorptionskoeffizient) und den mechanischen Schichtspannungen untersucht. Hierfür wurden die Prozessparameter Bogenstrom und Sauerstoffpartialdruck variiert. Mit dem Spektralphotometer wurde die Transmission der Schichten vermessen, woraus der Brechungsindex und die Absorptionskante ermittelt wurden. Für die Messung der Absorption wurde die Photothermale Deflektionsspektroskopie eingesetzt und der Absorptionskoeffizient berechnet. Die mechanischen Schichtspannungen wurden aus der Verformung von dünnen Si‐Wafern ermittelt.