Optische in situ Schichtdickenmessung in Bedampfungsanlagen. Optical in situ film thickness monitoring in coating systems

Im Vergleich zu der in Bedampfungsanlagen gebräuchlichen Schwingquarzmessung ist die optische Schichtdickenmessung wesentlich präziser. Sie basiert auf dem Interferenzprinzip von monochromatischen Lichtstrahlen, welche an den Übergängen von Schichten mit unterschiedlichen Brechwerten sowohl Transmission wie auch (bisweilen mehrfach) Reflexion erfahren. Während eines Bedampfungsprozesses gibt der zeitliche Verlauf der Intensität des resultierenden Lichtstrahls präzise Auskunft über die Schichtdicke. Die Messung erfolgt an einem austauschbaren Testglas, welches in unmittelbarer Nähe der Substrate angebracht ist. Der genaue Zeitpunkt der Abschaltung wird durch die Anpassung eines theoretischen Kurvenverlaufs an die digitalisierten Messwerte berechnet. Ordnungsfilter sorgen dafür, dass keine Effekte höherer Beugungsordnungen des Monochromatorgitters die Messung beeinflussen.