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Reactive Low Voltage Ion Plating (RLVIP). Prozess‐, Plasma‐ und Schichteigenschaften am Beispiel von Ta 2 O 5 /SiO 2
Author(s) -
Schlichterle S.,
Strauss G. N.,
Tafelmeier H.,
Huber D.,
Pulker H.K.
Publication year - 2005
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200500256
Subject(s) - chemistry , analytical chemistry (journal) , polymer chemistry , crystallography , chromatography
Moderne optische Vielschichtsysteme fordern hohe Schichtstabilität, geringe mechanische Schichtspannungen und kleinste optische Verluste der sich aufbauenden Einzelschichten. Mit dem BAP800 Beschichtungssystem aufgebrachte Vielschichtsysteme genügen höchsten Anforderungen der Präzisionsoptik. Ziel dieser Arbeit ist eine Vorstellung dieses ausgewählten PVD Beschichtungsprozesses, die Darstellung der Plasmakenndaten und die Präsentation der praktischen Umsetzung von Ta 2 O 5 und SiO 2 Schichten in optischen Vielschichtsystemen. Dafür wurden Ta 2 O 5 /SiO 2 Wechselschichten in einer BAP800 mittels Reaktiven Niedervolt–Hochstrom‐Ionenplatieren (RLVIP) auf geheizten Kieselglas‐Substraten aufgebracht. Diese Metalloxid‐Schichten wurden auf deren optischen Eigenschaften (Brechungsindex n und optischer Absorption Koeffizient k) und auf deren mechanische Eigenschaften (Dichte ρ und Schichtspannung σ) untersucht. Das Prozess‐Plasma wurde mittels Plasmamonitor, Langmuirsonde und Faraday Cups erfasst. Eine Korrelation der Plasmadaten mit den Schichteigenschaften wird aufgezeigt.