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Ionengestützte Beschichtungsprozesse in situ kontrollieren. Ion assisted deposition processes: in situ control
Author(s) -
Ehlers Henrik,
Groß Tobias,
Lappschies Marc,
Ristau Detlev
Publication year - 2004
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200400236
Subject(s) - physics , gynecology , chemistry , nuclear chemistry , materials science , polymer chemistry , medicine
Ionengestützte Beschichtungsprozesse für optische Präzisionskomponenten weisen insbesondere im nahen und mittleren infraroten Spektralbereich ein hohes Potenzial auf. Die vorgestellten Ergebnisse belegen das wichtige Kriterium eines minimierten Wassereinbaus in den Schichtstrukturen sowohl durch Messungen der optischen Verluste im Wellenlängenbereich um 3 μm als auch durch die Bestimmung der spektralen Stabilität der Optiken. Der Einsatz eines in situ Monitors, der breitbandige Transmissionsmessungen direkt am Produkt ermöglicht, liefert zudem eine umfangreiche Datenbasis für die Prozessanalyse und –entwicklung. So stehen zusätzliche Informationen über das Aufwachsverhalten, die Vakuum‐Luft‐Shift sowie über Schichtinhomogenitäten zur Verfügung. Die Verknüpfung des in situ Monitors mit der Anlagensteuerung ergibt ein automatisiertes System für die Prozesskontrolle, das auf einer präzisen Bestimmung der Schichtdicke aufsetzt und eine Ausgangsbasis für das Rapid Prototyping komplexer Schichtsysteme darstellt. Hierbei kann, im Gegensatz zu Standardmonitorstrategien, auf Testbeschichtungen und Kalibrationsfaktoren verzichtet werden. Mit der vorgestellten Kombination des stabilen ionengestützten Beschichtungsprozesses und des in situ Monitors konnte die Herstellung anspruchsvoller NIR‐/ MIR‐Schichtsysteme bei einer hohen Reproduzierbarkeit automatisiert werden.