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Wirtschaftliche Anwendung von Mikrowellen‐Plasmen vom mittleren bis Atmosphärendruck. Economic utilisation of microwave excited plasma in medium to atmospheric pressure
Author(s) -
Spitzl Ralf,
SungSpitzl Hildegard
Publication year - 2004
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200400200
Subject(s) - physics , gynecology , materials science , medicine
Es wird ein Überblick über die Möglichkeiten von Plasma Prozessen im mittleren bis Atmosphärendruck gegeben und im Kontext von Produktanwendungen diskutiert. Hohe Prozessgeschwindigkeit und Verlässlichkeit sind die wichtigsten Faktoren für industrielle Anwendungen. Das Mittel‐ bis Atmosphärendruckplasma ist in diesem Zusammenhang ein nützliches und wertvolles Werkzeug. Seine Entwicklung und Markteinführung stellt einen großen Fortschritt dar. Die in diesem Druckbereich betriebene CYRANNUS ® Plasmaquelle basiert auf dem Konzept eines zylindrischen Resonators mit ringförmigen Schlitzen (engl.: cy lindrical r esonator with annu lar s lots). Die Parameter Gas‐ und Flussdynamik können kontrolliert werden und führen zu weiteren Verbesserungen der Anlagen‐ und Prozessgestaltung. Nutzt man konsequent die Vorteile der Mitteldruck‐Plasmaprozesse, führt dies zu einer neuen Gestaltung der Anlagen und des Materialflusses. Die In‐line/On‐line Behandlung von 3‐D‐Werkstücken wird sehr effizient und ermöglicht konkurrenzfähige Plasmaprozesse für die Massenproduktion. Als weitere Möglichkeit der Produktivitätssteigerung der CYRANNUS ® Technologie wird der Einsatz im Bereich der Diamantbeschichtungen genutzt. Hierbei ist die Vergrößerung des Plasmas entscheidend, um Diamantschichten im wirtschaftlich attraktiven Rahmen herzustellen. Eine Besonderheit der CYRANNUS ® Einkopplung ist die mehrfache Skalierungsmöglichkeit, die ohne Einschränkung des Druckbereiches möglich ist (Abb. 1).

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