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Neue Entwicklungen beim Hohlkatoden‐Gasflusssputtern. New Developments in Hollow Cathode Gas Flow Sputtering
Author(s) -
Ortner Kai,
Birkholz Mario,
Jung Thomas
Publication year - 2003
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.200300196
Subject(s) - political science , materials science , gynecology , medicine
Die Gasflusssputtertechnik, vor einigen Jahren insbesondere zur kostengünstigen Herstellung hochwertiger Keramikschichten entwickelt, ist in der Zwischenzeit wesentlich leistungsfähiger geworden. Die im Laborbetrieb erreichte Reife ermöglicht nun den Einsatz in industriellen Fertigungsprozessen. Der vorliegende Artikel gibt einen Überblick über das bislang noch wenig bekannte Verfahren, seine Eigenschaften und die vielfältigen Einsatzmöglichkeiten.