Hochfrequenz‐Plasmastrahlquellen — Neue Werkzeuge für industrielle teilchenstrahlgestützte Dünnschichtprozesse

Der Anwendungsbereich der Ionenstrahltechnik hat sich von der reinen Grundlagenforschung bis hin zum industriellen Einsatz vornehmlich in der Mikroelektronik entwickelt. Ihre prinzipiellen Vorteile für andere Bereiche der Oberflächen‐ und Dünnschichttechnik sind vielen Anwendern und Entwicklern vertraut. Jedoch ist diese Technologie noch immer sehr aufwendig, und damit sind oftmals aus Kostengründen einem industriellen Einsatz Grenzen gesetzt. Als Alternative bietet sich heute in speziellen Anwendungsfällen die HF‐Plasmastrahltechnik in EU, USA, J. patentiert mit ihren spezifischen Vorzügen an. Sie ist kostengünstiger und oftmals effektiver. Ihre für die Industrie wohl interessanteste Anwendung besteht darin, auf verschiedensten Bauteilen und Werkzeugen Schichten mit hohen Anforderungen zu erzeugen. Die HF‐Plasmastrahltechnik steht hier, wie auch noch in anderen Anwendungsfällen, kurz vor einem industriellen Durchbruch. Ihr Bekanntheitsgrad ist jedoch noch sehr gering und die Palette ihrer Einsatzmöglichkeiten verdient eine größere Beachtung. Diesem Anliegen soll dieser Artikel dienen, in ihm sollen deshalb Prinzip und Aufbau und Anwendungsbeispiele dargestellt werden.