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Pulsed Laser Deposition: Schicht‐ und Prozeßuntersuchung
Author(s) -
Husmann Andreas,
Hangen Ude D.
Publication year - 1999
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.19990110307
Subject(s) - materials science , chemistry
Die Prozesse bei der Schichtabscheidung im PLD‐Verfahren werden systematisch beschrieben. Exemplarische Ergebnisse zur Prozeßentwicklung und Schichtanalyse mittels Ramanspektroskopie und nano‐Härtemessung werden vorgestellt.