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Plasma Cleaning in the Capacitor Production
Author(s) -
Krüger P.
Publication year - 1999
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.19990110210
Subject(s) - humanities , physics , materials science , philosophy
Die Entfernung organischer Verunreinigungen von Metall‐ oder Polymeroberflächen mit Hilfe eines Sauerstoffplasmas ist seit längerem bekannt und in der Industrie als Verfahren etabliert. Dennoch stellen die sehr unterschiedlichen technischen Umsetzungsbedingungen den Anlagenhersteller vor Probleme, die in manchen Industriezweigen eine Einführung erschwert. Am Beispiel der Reinigung von Kondensatoren sollen einige dieser Aspekte kurz diskutiert werden.