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Einfluß der Behandlungstemperatur beim plasmaunterstützten Gasphasenborieren mittels BCl 3
Author(s) -
Cabeo Emilio Rodríguez,
Laudien Günther,
Biemer Swen,
Rie KyongTschong,
Hoppe Steffen,
Frick Michael
Publication year - 1999
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.19990110208
Subject(s) - physics , chemistry
Der Einfluß der Temperatur beim Plasmaborieren in einer BCl 3 ‐H 2 ‐Ar‐Gasatmosphäre auf das Borierergebnis wird durch Anwendung der optischen Emissionsspektroskopie untersucht. Es werden verschiedene Teilchenarten im Plasma identifiziert. Eine besondere Wirkung auf den Schichtaufbau hat das Teilchendichteverhältnis B*/Cl + *, das u.a. von der Behandlungstemperatur abhängt. Unter Berücksichtigung der Entladungsbedingungen gelingt es durch Stufung der Temperatur korrosive Reaktionen an der Substratoberfläche weitgehend zu unterdrücken und porenfreie Boridschichten zu erzeugen.