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Aktuelle Applikationsfelder der Hochleistungs‐Elektronenstrahltechnik
Author(s) -
Lenk P.
Publication year - 1998
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.19980100108
Subject(s) - materials science , physics , art
Abstract Hochleistungs‐Elektronenstrahlen für industrielle Vakuumprozesse sind seit den sechziger Jahren bis in den MW‐Bereich verfügbar. In der Metallurgie der reaktiven und refraktären Metalle haben sie heute ihren festen Platz. Neue Applikationsfelder sind das Großflächenbeschichten von Metallbändern mit optischen Schichtsystemen sowie das Herstellen von Thermo‐Barriere‐Schichten für Gasturbinenkomponenten durch EB‐PVD‐Technologien (Electron Beam‐Physical Vapor Deposition). An der Vormachtstellung des Elektronenstrahls auf diesen Gebieten hat auch die Lasertechnik nichts ändern können.

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