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Modifizierung der Gasabgabe von Edelstahloberflächen durch Ionenimplantation
Author(s) -
Garke B.,
Edelmann Chr.,
Günzel R.,
Brutscher J.
Publication year - 1996
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.19960080408
Subject(s) - chemistry , physics
Ein seit einigen Jahren neu etabliertes Ionenimplantationsverfahren, die sogenannte Plasmaimmersionsimplantation (PIII), wurde bei Edelstahlproben angewandt, um definiert Sauerstoff‐ und Stickstoffionen in die Oberfläche zu implantieren und damit oxidische bzw. nitridische Barriereschichten für die Gasdiffusion zu erzeugen. Mit Hilfe oberflächenanalytischer Methoden konnte gezeigt werden, daß unterhalb der äußersten Oberfläche Sauerstoff bzw. Stickstoff über einen bestimmten Tiefenbereich homogen eingebaut wurde. Einige Meßergebnisse zum Gasabgabeverhalten dieser so plasmabehandelten Oberflächen werden vorgestellt und auf die Oberflächenmodifikation durch die Plasmabehandlung bzw. die Wirkung der Implantationsschicht zurückgeführt.