Premium
Asymmetric Bipolar Pulsed DC
Author(s) -
Sellers Jeff,
Pfähler Jürgen
Publication year - 1996
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.19960080308
Subject(s) - pulsed dc , physics , materials science , chemistry , nanotechnology , thin film , sputter deposition , sputtering
Zusammenfassung Asymmetric Bipolar Pulsed DC wurde als Energieform entwickelt, um isolierende Schichten in einem reaktiven PVD‐Prozess vom metallischen Target kostengünstig und mit hohen Raten langzeitstabil abzuscheiden. Die „Forward Power” (negativer Bereich) arbeitet als Stromquelle, da Ionen bewegt werden müssen. Die „Revers Power” (positiver Bereich) arbeitet als Spannungsquelle, da Elektronen zur Kompensation einer positiven Aufladung bewegt werden müssen. Mit dieser Technik wird die Targetvergiftung vermieden. Außer allen üblichen Parameter eines DCG (DC Generator) gibt es beim RPG (Reactive Plasma Generator) 3 weitere programmierbare Parameter: a) Frequenz (50–250KHz) b) Duty Cycle (0–40%) c) Amplitude des positiven Anteils genannte Reverse Bias Voltage (50–120V) Damit kann der Anwender den RPG (Reactive Plasma Generator) schnell für einen bestimmten Prozess optimieren. Es werden auch andere Quellentechniken mit der vorliegenden verglichen und erörtert. Außerdem wird der Einsatz des RPG (Reactive Plasma Generators) in Verbindung mit PVD‐ und CVD‐Prozessen beschrieben.