Plasmagestützte Vakuumbeschichtungsverfahren — Verfahrensvarianten und Entwicklungstendenzen

Dünne Schichten mit guten elektrischen, optischen, chemischen und mechanischen Eigenschaften lassen sich nur bei einer ausreichend hohen Mobilität der Teilchen beim Kondensationsprozeß herstellen. Sie ist vom Schmelzpunkt des Beschichtungsmaterials, der Substrattemperatur und der Teilchenenergie beim Auftreffen auf dem Substrat abhängig. Da der Substrattemperatur Grenzen gesetzt sind, kann vor allem bei hochschmelzenden Metallen oder Verbindungen eine Mobilitätserhöhung nur über die Teilchenenergie erfolgen. Teilchenenergien bis zu einigen 10 eV sind erforderlich, um Schichten hoher Dichte zu erzeugen. Unter vergleichbaren Beschichtungsbedingungen sind daher plasmagestützte Prozesse dem klassischen Aufdampfen im Hochvakuum überlegen. Gleichmäßige Kondensationsbedingungen auch auf großen Substratflächen und die Erzeugung einer möglichst hohen Ladungsträgerkonzentration zur Erhöhung der Kondensationsgeschwindigkeit bei reaktiven Beschichtungen sind vorrangige Ziele der Weiterentwicklung.