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Reimer, E.: Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz, Systematischer Kommentar, begründet von Prof. E. Reimer; 3., erweiterte Auflage, neu bearbeitet von Prof. K. Nastelski, R. Neumar, Ernst Reimer und W. Trüstedt. Carl Heymanns Verlag K. G. Köln–Berlin–Bonn–München 1968. 2505 Seiten, Plastik DM 248,–
Author(s) -
Graefe G.
Publication year - 1968
Publication title -
starch ‐ stärke
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.62
H-Index - 82
eISSN - 1521-379X
pISSN - 0038-9056
DOI - 10.1002/star.19680201212
Subject(s) - citation , humanities , philosophy , library science , computer science
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