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Diffusionsanisotropie in Eisen–Silizium‐Legierungen
Author(s) -
Forsch K.
Publication year - 1970
Publication title -
physica status solidi (b)
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.51
H-Index - 109
eISSN - 1521-3951
pISSN - 0370-1972
DOI - 10.1002/pssb.19700420135
Subject(s) - die (integrated circuit) , physics , materials science , crystallography , chemistry , nanotechnology
Die magnetfeldinduzierte Anisotropie wurde an FeSi‐Einkristallen mit 4,2; 6,7; 9,8 und 14 At% Si untersucht. Zwischen 50 und 350°C zeigt die Diffusionsanisotropie sowohl in [100]‐ als auch in [110]‐Richtung fast die gleiche Abhängigkeit von der Meßtemperatur wie die Kristallanisotropie. Die Zeitabhängigkeit der in einer Probe mit 4,2 At% Si in [100]‐bzw. [110]‐Richtung induzierten Anisotropie läßt sich gut durch eine einzige Relaxationszeit mit τ 0 = 3 × 10 −14±1.5 s und Q = (2,35 ± 0,2) eV beschreiben. Die Kristalle mit höheren Si‐Gehalten zeigen ein komplizierteres Verhalten.

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