Premium
Elektronenmikroskopische Untersuchung von Fehlstellenagglomeraten in ionenbestrahlten Kupferfolien II. Entstehung der Agglomerate
Author(s) -
Diepers H.
Publication year - 1967
Publication title -
physica status solidi (b)
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.51
H-Index - 109
eISSN - 1521-3951
pISSN - 0370-1972
DOI - 10.1002/pssb.19670240225
Subject(s) - chemistry , physics , agglomerate , materials science , composite material
Der Entstehungsmechanismus der in Cu‐Folien durch Beschuß mit Ar‐Ionen erzeugten Zwischengitteratomagglomerate wird untersucht [1]. hierzu wird einerseits die Abhängigkeit der Tiefenverteilung der Agglomerate von der Orientierung der Folie und der Energie der Ionen, andererseits die Abhängigkeit der Agglomeratdichte von der Ionendosis (Dosis‐kurven) bei verschiedenen Folientemperaturen gemessen. Es ergab sich, daß die Agglomerate aus Eigenzwischengitteratomen des Cu aufgebaut sind, die durch gerichtete Stoßprozesse in Form dynamischer Crowdionen ins Gitter eindringen. Der Mechanismus der Agglomeration wird an Hand der Dosiskurven, der Tiefenverteilungskurven und weiterer Experimente zur Bestimmung der Agglomeratgröße in Abhängigkeit von der Dosis, der Temperatur und der Tiefenlage diskutiert.