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Untersuchungen zum Ausscheidungsmechanismus von Kupfer in Silizium
Author(s) -
Rieger H.
Publication year - 1964
Publication title -
physica status solidi (b)
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.51
H-Index - 109
eISSN - 1521-3951
pISSN - 0370-1972
DOI - 10.1002/pssb.19640070226
Subject(s) - philosophy , humanities
Anhand licht‐ und elektronenmikroskopischer Beobachtungen wurde die Ausscheidung von Kupfer in Siliziumeinkristallen untersucht. Es ergab sich, daß die im Lichtmikroskop kompakt erscheinenden Ausscheidungen in Wirklichkeit räumlich scharf abgegrenzte Gebiete regellos angeordneter kugelförmiger Ausscheidungen sind. Die Ausscheidungsgebiete werden von spiral‐ bzw. wendelförmigen Versetzungen durchzogen. Auf Grund der durchgeführten Untersuchungen zum Ausscheidungswachstum wurde ein Modell für den Ausscheidungsmechanismus angegeben, dem eine autokatalytische Reaktion zugrunde liegt. Es ergaben sich außerdem einige grundsätzliche Grenzen bei der Anwendung der Dekorierungsmethode zur Versetzungsbeobachtung.