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Photorefraktive Materialien unter dem Rasterkraftmikroskop: Ein neuer Zugang zum Verständnis photorefraktiver Prozesse
Author(s) -
Soergel Elisabeth
Publication year - 2001
Publication title -
physikalische blätter
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3722
pISSN - 0031-9279
DOI - 10.1002/phbl.20010570311
Subject(s) - physics
Fortschritte in der Datenverarbeitung, Telekommunikation, Multimedia‐ und Displaytechnik erfordern optische Materialien, die auf Licht reagieren und umgekehrt auch Licht beeinflussen können. Für Anwendungen dieser Art eignen sich photorefraktive Materialien besonders gut. Die gezielte Optimierung dieser Materialien erfordert jedoch ein Verständnis der auf mikroskopischer Ebene ablaufenden Prozesse. In diesem Zusammenhang hat sich das Rasterkraftmikroskop als ein sehr wertvolles Instrument erwiesen.