Lithographie der nächsten Generation: Angesichts milliardenschwerer Entwicklungskosten muss die Industrie zwischen vier lithographischen Verfahren auswählen

In unserer Informationsgesellschaft besteht das Bedürfnis nach immer schnellerer Informationsverarbeitung und ‐übertragung sowie nach immer größerer Informationsdichte. Bei gegebener endlicher Geschwindigkeit für die Informationsübertragung (im Grenzfall die Lichtgeschwindigkeit) besteht die einzige Möglichkeit, diesem Bedürfnis zu entsprechen, darin, dass die Bauelementeabmessungen immer kleiner werden. Dies ist die treibende Kraft der Mikroelektronik und somit des größten und am schnellsten wachsenden internationalen High‐Tech‐Marktes. Um Bauelemente mit Abmessungen unter 100 nm realisieren zu können, muss in den nächsten Jahren die Entscheidung für ein neues Lithographieverfahren fallen.