Atomlithographie

Abstract Großtechnisch angewandte optische Lithographieverfahren stoßen bei Auflösungen unter 100 nm auf eine prinzipielle Grenze. Die Lithographie mit neutralen Atomstrahlen bietet dazu insbesondere beim parallelen Schreiben periodischer Strukturen eine interessante, noch junge Alternative. Indem man die Wechselwirkung der Atome mit Lichtmasken ausnutzt, gelingt es, großflächig periodische Linienmuster und verschiedene zweidimensional periodische Strukturen mit einer Auflösung unter 100 nm zu erzeugen. Dabei werden Atome entweder direkt auf einem Substrat deponiert oder zur Modifikation organischer Resists genutzt. Der folgende Beitrag gibt einen Überblick über den Stand der Lithographie mit Atomstrahlen.