Der Plasmafokus: Eine neue Röntgenquelle für die Röntgenmikroskopie und Röntgenlithographie

Plasmaröntgenquellen kleiner Abmessungen und hoher Brillanz im Spektralbereich von ca. 0,7 nm bis 4 nm werden in der Röntgenmikroskopie und Röntgenlithographie eingesetzt. Mit modifizierten Plasmafokusanlagen lassen sich selektiv strahlende Plasmen aus Hoch‐Z‐Atomen erzeugen. Die typischen Dimensionen dieser Plasmaröntgenquellen liegen im Submillimeterbereich. Bei geeigneter Wahl der Plasmaparameter dominiert die Linienemission hochionisierter Atome vor anderen Emissionsmechanismen. Erste Resultate zeigen, daß in der Röntgenlithographie mit einer Plasmafokus‐Röntgenquelle Strukturen kleiner als 0,2 μm erzeugt werden können.