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Hochauflösende Analyse der Diffusion in Metallen: Anwendung der Sekundärionen‐Massenspektrometrie auf maßgeschneiderte Proben
Author(s) -
Macht M.P.,
Naundorf V.
Publication year - 1984
Publication title -
physikalische blätter
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3722
pISSN - 0031-9279
DOI - 10.1002/phbl.19840400105
Subject(s) - chemistry
Die Kombination von hochauflösender Schichtentrennung durch Ionenzerstäubung und empfindlicher Konzentrationsmessung durch Sekundärionen‐Massenspektrometrie (SIMS) erlaubt die Messung kleinster Diffusionseffekte. Nach einer kurzen Beschreibung der Meßmethode werden die wichtigsten methodenspezifischen Effekte, die SIMS‐Messungen erschweren und ihre Auflösung begrenzen, anhand einiger Beispiele vorgestellt. Es wird gezeigt, daß die Anwendung der Methode erst bei Verwendung maßgeschneiderter Proben erfolgreich ist. Aufbau und Herstellungsverfahren solcher Proben werden beschrieben und beispielhafte Meßergebnisse erläutert.