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Elektronenstrahl‐Lithographie, ein Mittel zur Entwicklung Integrierter Schaltungen
Author(s) -
Braun Herwig
Publication year - 1981
Publication title -
physikalische blätter
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3722
pISSN - 0031-9279
DOI - 10.1002/phbl.19810371006
Subject(s) - physics , philosophy
Die fortschreitende Integrationsdichte stellt steigende Anforderungen an die Leistungs‐fähigkeit der Lithographie. Deshalb gewinnt neben der ständigen Verbesserung der optischen Verfahren die Entwicklung von Elektronenstrahl‐, Ionenstrahl‐ und Röntgenstrahlverfahren zunehmend an Bedeutung. Einleitend wird das Prinzip der wichtigsten Elektronenstrahl‐Belichtungsverfahren erläutert. Es folgt die Beschreibung von Aufbau und Wirkungsweise von EL2, einem Scanning‐Elektronenstrahl‐Belichtungssystem mit VSS (Variable Spot Shaping). Abschließend werden die mit EL2 erzielten Ergebnisse diskutiert.