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Entwicklung von HPPMS‐Al 2 O 3 ‐Beschichtungen für die Zerspanung von schwer zerspanbaren Werkstoffen
Author(s) -
Bobzin K.,
Brögelmann T.,
Kruppe N.C.,
Basturk S.,
Klocke F.,
Gerschwiler K.,
Kölker W.,
Bolz S.,
Kohlscheen J.
Publication year - 2018
Publication title -
materialwissenschaft und werkstofftechnik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.285
H-Index - 38
eISSN - 1521-4052
pISSN - 0933-5137
DOI - 10.1002/mawe.201800008
Subject(s) - high power impulse magnetron sputtering , gynecology , chemistry , materials science , sputter deposition , sputtering , nanotechnology , thin film , medicine
Die Beschichtung von Zerspanwerkzeugen hat in der Vergangenheit entscheidend zu Verbesserungen und Leistungssteigerungen in der Zerspantechnik beitragen können. Aluminiumoxid (Al 2 O 3 ) nimmt hierbei aufgrund einer Vielzahl an Eigenschaften, wie Warmhärte, Oxidations‐, Diffusions‐ und chemischer Beständigkeit eine wichtige Rolle ein. Physical Vapor Deposition (PVD) Al 2 O 3 ‐Beschichtungen, die mittels medium frequency Magnetron Sputtering (mfMS) hergestellt werden, haben ihre Leistungsfähigkeit in der Zerspanung von schwer zerspanbaren Werkstoffen bereits bewiesen. Die High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS)‐Technologie kann zu weiteren Verbesserungen der Schichtmorphologie und ‐eigenschaften aufgrund hoher Ionisation des abgesputterten Materials führen. In diesem Zusammenhang ist die Abscheidung von Al 2 O 3 mittels HPPMS bisher wenig erforscht. Bisher ist noch unklar, welche Phasen abgeschieden werden bzw. wie die Prozessparameter die Phasenbildung beeinflussen. Ziel der Untersuchungen ist es, die Erkenntnisse über die Abscheidung von PVD‐Al 2 O 3 ‐Schichten und deren Einsatzverhalten auf die industrielle Ebene mittels HPPMS zu übertragen, neue Einsatzbereiche des potenzialträchtigen Schichtsystems zu erschließen und somit einen Beitrag zur Weiterentwicklung in der Zerspantechnik von schwer zerspanbaren Werkstoffen zu leisten.