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Chemisches Abscheiden von NiP‐Nanokomposit‐schichten
Author(s) -
Dünkel K.,
Meyer D.,
Lampke T.,
Steinhäuser S.
Publication year - 2009
Publication title -
materialwissenschaft und werkstofftechnik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.285
H-Index - 38
eISSN - 1521-4052
pISSN - 0933-5137
DOI - 10.1002/mawe.200900534
Subject(s) - chemistry , polymer chemistry , materials science
Die elektrolytische und chemische Abscheidung von nickelbasierten Nanokompositen steht im Fokus weltweiter Forschungsaktivitäten. Ursache hierfür sind einerseits die aufgrund des minimalen Volumens in den Vordergrund rückenden Oberflächeneigenschaften nanoskaliger Verstärkungskomponenten. Andererseits bieten nanoskalige Partikel technologische Vorteile bei der Realisierung sehr dünner Schichten beispielsweise für die Mikrosystemtechnik. Jedoch ist bei chemischer Abscheidung im Vergleich zu elektrolytischer Abscheidung nur eine begrenzte Übertragbarkeit der Prozessparameter von mikro‐ zu nanoskaligen Dispersionsschichten gegeben. Dieser Artikel beschäftigt sich daher mit der Entwicklung und Modifizierung von Prozessen zur stabilen chemischen Abscheidung von NiP‐Dispersionsschichten mit nanoskaliger Verstärkungskomponente sowie deren Wirkung auf ausgewählte Schichteigenschaften (Härte, photokatalytische Aktivität). Das Ziel eines homogenen und feindispersen Einbaus der Partikel wurde weitgehend erreicht. Zudem wurde die Wirkung von Ultraschall auf die Einbaurate und das Desagglomerationsvermögen untersucht.