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Nanokristalline Werkstoffe hergestellt mit dem Thermischen HF‐Plasma
Author(s) -
Blum J.,
Herrmann A.,
Schwenk A.,
Weiss K.H.,
Nutsch G.
Publication year - 2003
Publication title -
materialwissenschaft und werkstofftechnik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.285
H-Index - 38
eISSN - 1521-4052
pISSN - 0933-5137
DOI - 10.1002/mawe.200390124
Subject(s) - chemistry , nuclear chemistry
Das induktiv gekoppelte Plasma (ICP) eignet sich unter atmosphärischen Bedingungen besonders für das Aufschmelzen und Verdampfen von Werkstoffen. Das elektrodenlose ICP kann ohne Ausnahme mit beliebigen Gasgemischen betrieben werden. Mit der Verwendung eines Argon‐Sauerstoff Hüllgasgemisches des ICP werden Reaktion metall‐organischer, flüssiger Precursoren, die in den heißen Plasmakern injiziert werden, nanokristalline Schichten erzeugt. Für den Beschichtungsprozess wir ein Überschallplasmastrahl eingesetzt. Durch den Aufprall der Partikel auf dem Substrat, das direkt am Düsenausgang des Plasmatrons positioniert ist, werden dünne Schichten hoher Dichte mit Kristallitgrössen von 30‐40 nm erzeugt. Die Struktur und Korngrössen der abgeschiedenen Schichten werden mittels XRD analysiert.