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Aktivierungsenthalpien und Mechanismen der unterkritischen Rißausbreitung in Aluminiumoxidkeramiken
Author(s) -
Devezas Tessaleno C.,
Kleinlein F. W.,
Ilschner Bernhard
Publication year - 1984
Publication title -
materialwissenschaft und werkstofftechnik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.285
H-Index - 38
eISSN - 1521-4052
pISSN - 0933-5137
DOI - 10.1002/mawe.19840150206
Subject(s) - chemistry
An zwei Qualitäten kommerzieller Al 2 O 3 ‐Keramik unterschiedlichen SiO 2 ‐Gehalts wurde an Doppeltorsionsproben die langsame Rißausbreitung im Temperatubereich von 25 bis 1000°C untersucht. Es wurden drei Bereiche gefunden, die eine unterschiedliche Abhängigkeit der effektiven Aktivierungsenthalpien vom Spannungsintensitätsfaktor aufweisen. Bei niedrigen Temperaturen steuert im wesentlichen die Reaktion des Wasserdampfes der umgebenden Luft mit der Korngrenzenphase die Rißausbreitung, bei hohen Temperaturen spielt die Erweichung dieser Korngrenzenphase die entscheidende Rolle.